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National Nanotechnology Policy Center

정책연구보고서

정책센터 나노임프린트 리소그래피

페이지 정보

발행기관
KISTI
저자
최붕기,이성은/LG전자기술원
발행일
2002-03-01
조회
2,943
원문

본문

나노임프린트 리소그래피는 1990년대 중반 미국 프린스턴 대학교의 Stephen Y. Chou 교수에 의해 도입된 나노 제작 방법으로 낮은 생산서을 갖는 전자빔 리소그래피를 보완할 기술로 주목받고 있다. NIL 기술은 컴팩디스크와 같은 마이크로 스케일의 패턴을 갖는 고분자 소재 제품의 대량 생산에 사용되는 엠보싱/몰딩 기술을 리소그래피에 적용한 것이다.