정책센터 전자빔을 이용한 나노 패터닝 기술
페이지 정보
- 발행기관
- 서울대학교 / 한국과학기술정보연구원
- 저자
- 김기범 / 이호신
- 발행일
- 2002-12-28
- 조회
- 4,057
- 원문
-
- 전자빔패터닝.pdf (2.6M) 46회 다운로드 | DATE : 2007-06-28 00:00:00
본문
나노 전자빔을 이용한 나노 패터닝 기술에 있어서 그 생산성을 향상시키기 위한 노력이 꾸준하게 제기되고 있는 데, 그 중의 하나가 기존의 single electron beam을 이용한 direct writing 전자빔 리소그래피 기술 대신 multi electron beam의 기술을 이용하는 리소그래피(MEBDW) 기술과 기존의 scanning type의 전자빔 리소그래피의 개념을 탈피하여 TEM(transmission electron microscopy) 방식을 이용한 프로젝션 방식의 전자빔 리소그래피 기술의 도입이다. 본 보고서에서는 전자빔의 이용하여 나노미터 수준의 resolution을 확보하면서 반도체 양산 공정에 적용이 가능한 생산성을 갖춘 프로젝션 방식의 전자빔 리소그래피 기술을 중심으로 작성하였다.
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