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초고해상도 대면적 양자점 패턴화 기술 개발

페이지 정보

발행기관
한국연구재단
저자
 
종류
R&D
나노기술분류
나노정보전자
발행일
2022-08-29
조회
38

본문

- 배완기 교수(성균관대), 강문성 교수(서강대), 강찬모 박사(ETRI) 공동연구팀이 미래형 디스플레이 구현을 위한 핵심기술로 여겨지는 초고해상도 양자점 패턴화 기술을 개발

- 양자점의 고유한 전기적광학적 특성을 유지하면서 패턴화하는 기술은 여전히 차세대 양자점 디스플레이 구현에 가장 어려운 과제로 존재

- 이에 연구팀은 기존 양자점 표면의 분산 리간드에 광가교 리간드를 도입하여 별도의 감광제 및 가교제 등의 첨가물 없이 양자점만으로 패턴화가 가능한 이중 리간드 양자점 소재 기술을 제시

- 광가교 리간드가 도입된 양자점 박막에 자외선을 조사하면 이웃한 양자점의 리간드 간 가교가 일어나며, 양자점 박막은 회로 패턴 형성 공정에 사용되는 용매에 대하여 구조적 저항성을 가지게 되므로 자외선이 조사되지 않아 구조적 저항성이 없는 부분의 양자점을 분산 용매로 제거하면 간단한 공정을 통해 패턴화된 양자점 박막을 얻는 것이 가능

- 이러한 패턴화 공정은 별도의 첨가물이 없기에 양자점 박막의 광학적 특성은 물론 전기적 특성까지 전혀 저해하지 않아 기존 포토리소그래피 및 잉크젯 프린팅 등 모든 용액 공정에 적용 가능함을 규명

- 뿐만 아니라, 3,000ppi 이상의 고해상도 패턴화 기술을 요구하는 가상/증강현실 디스플레이 등 실질적인 차세대 디스플레이에 적용 가능한 기반을 마련

 

Nature Nanotechnology (2022.08.11.), Direct patterning of colloidal quantum dots with adaptable dual-ligand surface

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